首頁 > ショッピングカート > プロセス計測 > 熱電対ウェハ【TC Wafer】    

熱電対ウェハ【TC Wafer】    

  • 熱電対ウェハ【TC Wafer】    
  • 熱電対ウェハ【TC Wafer】    
  • 熱電対ウェハ【TC Wafer】    
  • 熱電対ウェハ【TC Wafer】    
製品特長
2〜12インチのウェハと熱電対で構成。
装置プラットフォームの高精度に測定。
多点測定による装置内の温度均一性評価(1〜34点)。
昇温速度は最大 35°C/秒に到達。
温度範囲:-200℃ 〜 1250℃
柔軟なカスタマイズに対応。
有線または無線データロガー経由でPCへデータ転送可能。
 
校正サービス
ILAC / ANAB 認定校正サービス。
ISO 17025 認証取得済みラボ。
グローバルな校正ネットワークでワークフローを向上化。
品質管理のためのカスタマイズ型温度測定ツール 豊富なプロセス経験を持つ専門開発チームが、検証済みの測定ツールを設計・製造しています。
自社開発の熱電対付きウェハ(TCW
)は、ILAC認可を受けた第三者機関のラボにて、TAF/ANAB基準に基づき校正されています。
ウェハ表面の単一または複数の特定ポイントから正確な温度データを取得することで、装置の校正や温度均一性のモニタリングを強力にサポートします。

主な用途: RTP、オーブン、リフロー炉、ホットプレート、CVDPVD、スパッタリング、その他各種プロセス。

TOP